碳化硅變?nèi)荻O管
作者:海飛樂技術(shù) 時(shí)間:2018-03-26 11:59
變?nèi)荻O管是一種非線性響應(yīng)器件,用于諧波的產(chǎn)生、參數(shù)擴(kuò)增、混合、檢測(cè)和可變電壓的微調(diào)?,F(xiàn)在變?nèi)荻O管主要用于毫米和亞毫米波頻率的產(chǎn)生及各種微波應(yīng)用中的調(diào)制。通常,利用適度摻雜的肖特基或p+n二極管電壓依賴電容的特性制作變?nèi)荻O管。式(1)給出了眾所周知的關(guān)系,即對(duì)于均勻摻雜耗盡區(qū),肖特基二極管和非對(duì)稱突變p+n結(jié)電容隨電壓V的變化關(guān)系為
(1)
式中,€0為真空介電常數(shù);q為基本電荷;A為二極管面積;ND是耗盡區(qū)摻雜量;Фbi是結(jié)內(nèi)建電勢(shì)。變?nèi)荻O管的品質(zhì)因子(Q因子)可以定義為
(2)
式中,f1為工作頻率;靜態(tài)截止頻率定義為二極管零偏時(shí)容抗(XC)等于串聯(lián)電阻(RS)時(shí)對(duì)應(yīng)的頻率,即
(3)
當(dāng)變?nèi)荻O管工作在特征頻率時(shí),Q因子必須至少為10才合適。fC的值表示變?nèi)荻O管與工作頻率無關(guān)的損失和效率。二極管的串聯(lián)電阻來自于襯底、歐姆接觸和外延層。設(shè)計(jì)的變?nèi)萜鲬?yīng)當(dāng)忽略襯底和歐姆接觸電阻。為了盡量減少外延層電阻,其厚度d應(yīng)該等于外加最大反向電壓時(shí)空間電荷區(qū)(wSRC)的寬度??紤]外延層串聯(lián)電阻[d-wSRC(0)]/AqµeND,并且假設(shè)d》wSRC(0),式(3)中的fC可以改寫為
(4)
式中,γ=Cmax/Cmin≈d/wSRC(0),是大多數(shù)變?nèi)荻O管發(fā)揮最大應(yīng)用的另一個(gè)參數(shù)。由于SIC載流子遷移率較低,從式(4)可以清楚地看出,如果不限制ND值,如應(yīng)用在參數(shù)放大器中,那么SIC將是一種制造變?nèi)荻O管不可替代的材料。然而,在調(diào)諧應(yīng)用和諧波振蕩器中,變?nèi)荻O管必須按照偏置電壓(V0)特殊設(shè)計(jì)。關(guān)于高壓和高功率SIC變?nèi)荻O管的理論已經(jīng)得到Tager和Wright等人的驗(yàn)證。這種二極管的最大外加電壓受擊穿電壓(VM=FMd/2)和應(yīng)用頻率的限制,即
(5)
式(5)表明,對(duì)于給定的額定電壓V0,SIC是制造變?nèi)荻O管的一種非常適合的材料。表1比較了SIC與常規(guī)半導(dǎo)體材料的值。4H-SIC的值是GaAs的14倍,因此,對(duì)于工作在同樣的電壓下,氮化鎵變?nèi)荻O管比GaAs的工作頻率高。
表1 大功率變?nèi)荻O管不同參數(shù)的品質(zhì)因數(shù)(相對(duì)于Si的歸一化值)
然而實(shí)際中,由于材料性能的限制,氮化鎵器件主要受相對(duì)較高的接觸電阻和襯底電阻影響。唯一證明SIC變?nèi)荻O管優(yōu)越性的實(shí)驗(yàn)由Vassilevski和Zorenko報(bào)道。p+n結(jié)構(gòu)變?nèi)荻O管通過在n型6H-SIC Lely晶體的Si表面液相外延生長而成。二極管通過適當(dāng)摻雜(ND-NA)約為4×1017cm-3,p+層厚度約為1.0µm和0.5µm,未補(bǔ)償施主濃度為(NA-ND)約為2×1019cm-3。生長100µm的外延層,干法刻蝕出高2µm和直徑60µm的臺(tái)面結(jié)構(gòu),并在p層上蒸鍍1.5µm厚的A1形成接觸,晶片兩面的n層形成鉻接觸,保持銅與Au-Ge合金焊接間的紅寶石環(huán)隔離,金的交叉連接通過A1接觸熱壓焊形成。
圖1 應(yīng)用于SIC變?nèi)荻O管的Si IMPATT振蕩輸出功率和頻率隨導(dǎo)通電壓的變化
已經(jīng)成功制造了雪崩擊穿電壓為140V、零偏電容C(0)為2.5~3.0pF、γ(8)的二極管。用于調(diào)整壓控Si IMPATT振蕩器的振蕩頻率,使其工作在頻率為140GHz的連續(xù)波模式。如圖1所示,二極管可以得到約100MHz的頻率調(diào)整,但相對(duì)高的電阻會(huì)引起很大的功率損耗。隨著SIC材料生長和器件工藝的進(jìn)步,4H-SIC外延結(jié)構(gòu)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)商品化,并且在n型和p型已經(jīng)開發(fā)出了RC約為10-5?cm2的低阻歐姆接觸工藝,但盡管如此,微波應(yīng)用的高功率氮化鎵變?nèi)萜鞑]有得到進(jìn)一步的發(fā)展。
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